CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

سنتز و مشخصه یابی لایه نازک اکسید مس رشد یافته به روش کندوپاش واکنشی

عنوان مقاله: سنتز و مشخصه یابی لایه نازک اکسید مس رشد یافته به روش کندوپاش واکنشی
شناسه ملی مقاله: ISSE20_046
منتشر شده در بیستمین همایش ملی مهندسی سطح و اولین کنفرانس آنالیز تخریب و تخمین عمر در سال 1398
مشخصات نویسندگان مقاله:

خدیجه فرهادیان - دانشکده مواد و صنایع، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل، بابل (دانشجوی کارشناسی ارشد نانو مواد)
مرضیه عباسی فیروزجاه - دانشکده مهندسی، دانشگاه فناوری های نوین سبزوار، سبزوار (استادیار)
مجید عباسی - دانشکده مواد و صنایع، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل، بابل (دانشیار)
مجتبی هاشم زاده - دانشکده فیزیک، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود (استادیار)

خلاصه مقاله:
در این پژوهش لایه اکسید مس به روش کندوپاش واکنشی بر روی زیرلایه های شیشه ای در توان های مختلف لایه نشانی شده اند. به منظور بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه ها به ترتیب از روش های مشخصه یابی پراش اشعه ایکس (XRD) و طیف سنجی UV-Vis استفاده شده است. نتایج نشان می دهند که با افزاش توان، فاز اکسید مس (Cu2O) به فاز کریستالی مس تغییر پیدا می کند. با بررسی خواص اپتیکی، گاف انرژی اکسید مس 2/58ev مشخص شده است.

کلمات کلیدی:
کندوپاش، اکسید مس، گاف انرژی

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/1013809/