سیدمجید برقعی - دانشکده فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد کرج
سمیرا کمالی
محمود قران نویس

دراین مقاله نانوذرات اکسید منیزیم به روش لایه نشانی بخار شیمیایی با استفاده از فیلامان داغ HFCVD برروی زیرلایه سیلیکون si تولید شد و اثر تغییرات دما برسایز ذرات مورد بررسی قرارگرفته شده است اکسیدمنیزیم در رنج دمای 2000-1400 درجه سانتی گراد لایه نشانی شده و نمونه ها تحت انالیز پراش پرتو اشعه ایکس XRD ، انالیز میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM و انالیز پراکندگی انرژی پرتوا شعه ایکس EDX قرارگرفته شدهاند.