پرویز محمدیان صمیم - همدان، دانشگاه بوعلی سینا، دانشکده مهندسی، گروه مواد (دانشجوی دکتری)
آرش فتاح الحسینی - همدان، دانشگاه بوعلی سینا، دانشکده مهندسی، گروه مواد (استاد)
حسن علم خواه - همدان، دانشگاه بوعلی سینا، دانشکده مهندسی، گروه مواد (دانشیار)
امید ایمان طلب - همدان، دانشگاه بوعلی سینا، دانشکده مهندسی، گروه مواد (استادیار)

تحقیق حاضر با هدف بررسی اثر تعداد جفت لایه بر رفتار الکتروشیمیایی پوشش نانوساختار CrN/ZrN ایجادشدهبا روش رسوب فیزیکی از فاز بخار با کمک قوس کاتدی (CAE-PVD) روی فولاد زنگنزن ۳۰۴ صورتگرفت. به این منظور، پوشش های نانوساختار چندلایه ای CrN/ZrN با تعداد جفت لایه های متفاوت (۱۰ ، ۲۰ و ۳۰)ایجاد شدند. رفتار الکتروشیمیایی نمونه های دارای پوشش با استفاده از آزمون های طیف سنجی امپدانسالکتروشیمیایی (EIS) در شرایط پتانسیل مدارباز و آزمون های پلاریزاسیون پتانسیودینایک در محیط ۵ / ۳ درصدوزنی کلریدسدیم مورد ارزیابی قرار گرفت. سطح نمونه ها پس از آزمون الکتروشیمیایی با استفاده از تصاویرمیکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FE-SEM) مقایسه و بررسی شدند. نتایج حاصل از آزمون هایEIS بیانگر آن بود که نمونه دارای پوشش با تعداد ۳۰ جفت لایه نسبت به دیگر نمونه ها مقاومت به پولاریزاسیونبالاتری از خود نشان داده است. همچنین، نتایج پلاریزاسیون پتانسیودینامیک نشان داد که با افزایش تعدادجفت لایه، چگالی جریان خوردگی کاهش می یابد. همچنین، تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی نشان دادندکه تعداد حفره های تشکیل شده سطحی مربوط به نمونه ها با افزایش تعداد جفت لایه کاهش پیدا کرده است که برافزایش مقاومت به پلاریزاسیون موثر است.

جفت لایه، رفتار الکتروشیمیایی، نانوساختار EIS, CAE-PVD, CrN/ZrN