CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی عملکرد آنالوگ ترانزیستورهای FD SOI با تکنولوژی دو گیت عایق شده فلزی در مقیاس نانو برای کاربردهای فرکانس بالا

عنوان مقاله: بررسی عملکرد آنالوگ ترانزیستورهای FD SOI با تکنولوژی دو گیت عایق شده فلزی در مقیاس نانو برای کاربردهای فرکانس بالا
شناسه ملی مقاله: ELCM04_080
منتشر شده در چهارمین کنفرانس بین المللی مهندسی برق، کامپیوتر و مکانیک در سال 1400
مشخصات نویسندگان مقاله:

محدثه نوروزی عزیزآباد - دانش آموخته کارشناسی ارشد/گروه مهندسی برق/دانشگاه غیرانتفاعی کادوس رشت
فیض اله خرم روز - دانش آموخته دکترا/گروه مهندسی برق/ دانشگاه آزاد واحد رشت

خلاصه مقاله:
ساختارهای ماسفت کاملا تخلیه شده سیلیکون بر روی عایق (FD SOI) به دلیل مصونیت نسبت به اثرات مختلف کوچک سازی و پیچیدگی کمتر در طراحی، در مقایسه با سایر ساختارهای ماسفت مانند FinFET ، مورد توجه چشمگیر قرار گرفته اند. در این مطالعه ، به منظور بررسی کاربردهای آنالوگ کم مصرف و فرکانس بالا ، ماسفت FD SOI معمولی با یک افزاره دو گیتی مورد مقایسه و تجزیه و تحلیل قرار گرفته است. مشخص گردید که ساختار FD SOI دو گیتی عایق شده با دو فلز، ضمن ارایه هدایت انتقالی بالاتر، فرکانس قطع بیشتری را همراه با ظرفیت خازنی کمتر در مقایسه با افزاره های موجود در همان فناوری نشان می دهد. تمام این مطالعات با استفاده از شبیه ساز ATLAS TCAD انجام شده است.

کلمات کلیدی:
ترانزیستورهای کاملا تخلیه شده سیلیسیم روی عایق، ترانزیستورهای دوگیتی، فرکانس قطع بالا، ضریب دی الکتریک بالا

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/1271627/