بررسی اثر افزایش زمان رشد و فشار گاز در رشد فیلمهای نانوالماس با استفاده از دستگاه HFCVD
عنوان مقاله: بررسی اثر افزایش زمان رشد و فشار گاز در رشد فیلمهای نانوالماس با استفاده از دستگاه HFCVD
شناسه ملی مقاله: NCNN01_213
منتشر شده در اولین همایش نانومواد و نانوتکنولوژی در سال 1390
شناسه ملی مقاله: NCNN01_213
منتشر شده در اولین همایش نانومواد و نانوتکنولوژی در سال 1390
مشخصات نویسندگان مقاله:
محبوبه فتحی کناری - گروه نانوفیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات حصارک بعد از مید
محمود قرآن نویس
سعید نصیری
خلاصه مقاله:
محبوبه فتحی کناری - گروه نانوفیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات حصارک بعد از مید
محمود قرآن نویس
سعید نصیری
دراین پروژه با توجه به اینکه هدف پروژه بررسی وابستگی پارامترهای ساختاری به پارامترهای رشد و معرفی نقطه بهینه رشد می باشد دوپارامتر زمان رشد و فشار گاز ورودی به سیستم به عنوان پارامتر مستقل انتخاب شده و تغییرات پارامتری ساختاری مانند میزان متوسط زبری سطح درصدکریستالیته و سایز کریستال الماس نسبت به این پارامترها بررسی شدهاست دراین پروژه از سیستم رسوبگذاری بخار شیمیایی فیلمان داغ HFCVD) به عنوان فرایند و ازگازهای کربن دار مانند متان و گازهای رقیق کننده مانندهیدروژن استفاده شدهاست نتایج نشان میدهد که بالاترین میزان زبری درزمانهای 30 دقیقه 16.2 نانومتر و 60 دقیقه 15.6 نانومتر و درفشار گازی 10 16.2 نانومتر و 150 تور 15.3 نانومتر و بالاترین سایز الماس کریستالی درزمان رشد 30 دقیقه و درفشار 10 تور 1.23 نانومتر بدستآمدها ند.
کلمات کلیدی: الماس، نانوکریستال، HFCVD)
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/143234/