CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی اثر افزایش زمان رشد و فشار گاز در رشد فیلمهای نانوالماس با استفاده از دستگاه HFCVD

عنوان مقاله: بررسی اثر افزایش زمان رشد و فشار گاز در رشد فیلمهای نانوالماس با استفاده از دستگاه HFCVD
شناسه ملی مقاله: NCNN01_213
منتشر شده در اولین همایش نانومواد و نانوتکنولوژی در سال 1390
مشخصات نویسندگان مقاله:

محبوبه فتحی کناری - گروه نانوفیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات حصارک بعد از مید
محمود قرآن نویس
سعید نصیری

خلاصه مقاله:
دراین پروژه با توجه به اینکه هدف پروژه بررسی وابستگی پارامترهای ساختاری به پارامترهای رشد و معرفی نقطه بهینه رشد می باشد دوپارامتر زمان رشد و فشار گاز ورودی به سیستم به عنوان پارامتر مستقل انتخاب شده و تغییرات پارامتری ساختاری مانند میزان متوسط زبری سطح درصدکریستالیته و سایز کریستال الماس نسبت به این پارامترها بررسی شدهاست دراین پروژه از سیستم رسوبگذاری بخار شیمیایی فیلمان داغ HFCVD) به عنوان فرایند و ازگازهای کربن دار مانند متان و گازهای رقیق کننده مانندهیدروژن استفاده شدهاست نتایج نشان میدهد که بالاترین میزان زبری درزمانهای 30 دقیقه 16.2 نانومتر و 60 دقیقه 15.6 نانومتر و درفشار گازی 10 16.2 نانومتر و 150 تور 15.3 نانومتر و بالاترین سایز الماس کریستالی درزمان رشد 30 دقیقه و درفشار 10 تور 1.23 نانومتر بدستآمدها ند.

کلمات کلیدی:
الماس، نانوکریستال، HFCVD)

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/143234/