اکرم حسن پوریوزبند - گروه خوردگی و حفاظت از مواد، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران.
محمد قربانی - دانشکده مواد، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران
ابوالقاسم دولتی - دانشگاه صنعتی شریف
کیومرث احمدی - گروه خوردگی و حفاظت از مواد، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران.
معصومه پورصادق چلکدانی - گروه خوردگی و حفاظت از مواد، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران.

در این پژوهش مکانیزم رسوب دهی الکتروشیمیایی پوشش چندلایه مس/نیکل-فسفر از روش تک-حمام با استفاده از روش های ولتامتری چرخه ای و منحنی های توزیع گونه های پایدار در محلول بر حسب pH مورد بررسی قرار گرفت. در این راستا اثر تک تک اجزای حمام بر نوع گونه ی غالب در حمام و رفتار آن گونه ی غالب در رسوب دهی مورد مطالعه قرار گرفت. بسته به نوع گونه ی غالب در حمام، در ولتامتری های چرخه ای پیک های متفاوتی با پتانسیل و چگالی جریان خاصی مشاهده شد. پیک های ظاهر شده در ولتاموگرام ها نشان دهنده ی مکانیزم نفوذ-کنترل فرایند احیای کاتیون ها از محلول های مورد استفاده بود. با وجود اینکه کمپلکس کننده سیترات اثر ممانعت کننده بر احیای مس داشت اما جریان احیای نیکل را افزایش داد. از طرفی با وجود اینکه حمام سیتراتی مس-نیکل اغلب برای رسوب دهی آلیاژی مورد استفاده قرار می گیرد اما ظاهر شدن پیک های مجزا در منحنی های ولتامتری نشان داد که ترکیب و pH حمام نهایی برای رسوب دهی چندلایه ها کاملا مناسب بوده به طوری که می توان با انتخاب درست پتانسیل احیا، رسوبات غنی از نیکل و غنی از مس تهیه نمود. محدوده ی پتانسیل پیک مس برای لایه غنی از این عنصر ۰.۱ - تا ۰.۴ - V vs.SCE و محدوده ی پتانسیل نیکل برای لایه غنی از آن پتانسیل های منفی تر از ۰.۹- V vs. SCE بدست آمد.

مکانیزم رسوب دهی, چندلایه مس/نیکل-فسفر, ولتامتری چرخه ای, دیاگرام پایداری