الهام جعفری خمسه - پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی هسته ای ، کرج
پروین بلاش آبادی - پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی هسته ای ، کرج
ضرغام اسداللهی - پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی هسته ای ، کرج
سیما عشقی - گروه مواد دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات تهران

لایه نازک مس (Cu) با روش کند و پاش مغناطیسی در محدوده دمای زیرلایه 523 - 300 درجه کلوین بر روی زیرلایه شیشه انباشت شد. تاثیر تغییر دمای زیرلایه بر ویژگی های میکرو ساختاری لایه نازک مس مورد مطالعه قرار گرفت. توپوگرافی سطح لایه توسط میکروسکوپ الکترونی عبوری ( SEM ) مورد بررسی قرار گرفت. پارامترهای بررسی توگرافی سطح با استفاده از نظریه فرکتال بدست آمدند. روش شمارش جعبه دیفرانسیلی برای محاسبه بعد فرکتالی مورد استفاده قرار گرفت. برای بررسی بهتر زبری سطح فیلم ها از تصاویر دو و سه بعدی تصاویر SEM استفاده شد.

میکروسکوپ الکترونی عبوری، ویژگی های میکروساختاری، لایه نازک، فرکتال