CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

اثر لایه میانگیر آندی بر کارایی سلول فوتوولتاییک آلی با پیوند ناهمگون CuPc/C60

عنوان مقاله: اثر لایه میانگیر آندی بر کارایی سلول فوتوولتاییک آلی با پیوند ناهمگون CuPc/C60
شناسه ملی مقاله: NCOLE03_179
منتشر شده در سومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیرز ایران در سال 1392
مشخصات نویسندگان مقاله:

محسن قاسمی ورنامخواستی - گروه فیزیک،دانشکده علوم، دانشگاه شهرکرد

خلاصه مقاله:
در این پژوهش یک نمونه سلول فوتوولتاییک آلی دولایه ای بر پایه پیوند ناهمگون CuPc/C60 ساخته می شود. لایه پلیمری PEDOT:PSS و لایه نازک فلزی طلا به عنوان لایه میانگیر آندی در این نوع سلول ها استفاده می شود. اثر لایه میانگیر آندی بر مشخصه های اصلی سلول ها به ویژه جریان مدار کوتاه،ولتاژ مدار باز و بازده تبدیل توان مورد تجزیه و تحلیل قرار می گیرد.در نهایت نشان می دهیم که لایه میانگیر بسیار نازک فلزی طلا می تواند جایگزین مناسبی برای لایه پلیمری PEDOT:PSS در سلول های فوتوولتاییک آلی بر پایه پیوند ناهمگون CuPc/C60 باشد.

کلمات کلیدی:
سلول فوتوولتاییک آلی، لایه میانگیر آندی، بازدهی تبدیل توان

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/223883/