CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی آزمایشگاهی تأثیر شدت میدان مغناطیسی بر ضریب کشش سطحی نانو سیال Al2O3

عنوان مقاله: بررسی آزمایشگاهی تأثیر شدت میدان مغناطیسی بر ضریب کشش سطحی نانو سیال Al2O3
شناسه ملی مقاله: OGPCONF01_067
منتشر شده در اولین کنفرانس ملی نفت،گاز پتروشیمی و توسعه پایدار در سال 1393
مشخصات نویسندگان مقاله:

عزالدین سیفی - دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشگاه آزاد اسلامی واحد شهرضا، گروه مهندسی شیمی
اسدالله ملک زاده - دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشگاه آزاد اسلامی واحد شهرضا، گروه مهندسی شیمی

خلاصه مقاله:
نانو سیال به محلول سوسپانسیونی اطلاق می شود که در آن ذرات فوق العاده ریز )کوچک تر از یکصد نانو متر( در سیالی خالص به حالت تعلیق در آورده شده باشد. این نانو ذرات از جنس فلز و یا اکسید فلزات و اغلب کروی شکل ویا استوانه ای هستند. این سوسپانسیون ها سری جدیدی از سیالات واسط حرارتی هستند که از معلق ساختن ذرات بسیار ریز در مایعات متداول مانند آب و اتیلن گلیکول به دست آمده اند و عملکرد حرارتی سیالات پایه را افزایشمی دهند. کشش سطحی ویژگی ای در مایعات است که باعث می شود لایه بیرونی آن ها به صورت ورقه ای کشسان عمل کند . در این جا نیز به بررسی تأثیری که میدان مغناطیسی بر روی کشش سطحی نانو سیال Fe3O4 می گذارد پرداخته می شود

کلمات کلیدی:
میدان مغناطیسی، نانو سیال، سوسپانسیون، اتیلن گلیکول

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/462610/