زهرا خلج - دانشگاه آزاد اسلامی ، واحد شهر قدس ، گروه فیزیک، تهران، ایران،
سید محمد الهی - دانشگاه آزاد اسلامی ، واحد علوم و تحقیقات تهران، گروه فیزیک، تهران، ایران
مقدسه ساداتی - دانشگاه آزاد اسلامی ، واحد علوم و تحقیقات تهران، گروه فیزیک، تهران، ایران

کربن یکی از عناصر مهم جدول تناوبی مندلیف می باشد که به دلیل میل واکنش پذیری بالا، دارای آلوتروپهای گوناگون از جمله نانولوله های کربنی، نانو دیواره ها، گرافیت، گرافن، کربن آمورف و غیره می باشد. فرم هیدروژن دار کربن آمورف (a-C:H) که غالبا با نام کربن شبه الماس (DLC) شناخته شده است دارای ساختار غیر کریستالی و متشکل از اتمهای کربن و هیدروژن می باشد و معمولا دارای ساختار هایی با هیبریداسیون SP3 کمتر از 50 % می باشد. خواص فوق العاده این ساختار کربنی، منجر به کاربرد های فراوان آن در حوزه علوم و صنایع گوناگون شده است. با پیشرفت تکنولوژی استفاده ازدستگاههای رسوب گذاری بخارات شیمیایی (CVD) ، تولید لایه های کربن شبه الماس با استفاده از این روشها به عنوان یکی از موضوعات مهم در دستورکار تحقیقاتی محققین قرار گرفت. طبق بررسی های انجام شده، کیفیت و خلوص ساختارها در تکنیک CVD بسیار مهم می باشد. در این مقاله کربن شبه الماس آلاییده به نیتروژن (N-DLC) توسط دستگاه HFCVD سنتز شد. به منظور بهبود خواص الکتریکی و افزایش رسانندگی لایه ها، تغییرات درصد نیتروژن ورودی روی ساختارها مورد بررسی قرار گرفت و نتایج با استفاده از آنالیزهای رامان، پروب چهارنقطه و میکروسکوپ الکترون روبشی مورد مطالعه قرار گرفت.

پروب چهار نقطه، دستگاه رسوب گذاری بخارات شیمیایی، کربن شبه الماس