نفیسه پرهیزکار - فارغ التحصیل کارشناسی ارشد، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف
ابوالقاسم دولتی - عضو هیات علمی، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف
رویا آقابابازاده - عضو هیات علمی، پژوهشگاه علوم و فناوری رنگ تهران

رسوب دهی الکتروشیمیایی مواد مرکب، روشی کم هزینه و دما پایین است که برای ساخت پوشش های ماده ی مرکب زمینه فلزی استفاده می شود. در این تحقیق، از عوامل سطحی آنیونی سدیم دودسیل سولفات و کاتیونی ستیل تری متیل آمونیم در غلظت های مختلف، به عنوان افزودنی در پوشش نیکل- نیترید تیتانیم استفاده شد. افزون بر این، از حمام واتس به عنوان حمام آبکاری استفاده شد و غلظت ذرات، چگالی جریان و سرعت تلاطم الکترولیت به ترتیب برابر با 4A/dm²، 30g/lit و 450rpm انتخاب شد. نتایج نشان دادند که عامل سطحی آنیونی نسبت به کاتیونی، سبب حضور بیشتر ذرات در پوشش ماده ی مرکب می شود. افزایش غلظت سدیم دودسیل سولفات تا مقدار بهینه، منجر به پراکندگی یکنواخت تر و بیش تر نانوذرات در پوشش ها شد. سختی پوشش نیکل خالص و نانوماده ی مرکب بهینه حاوی سدیم دودسیل سولفات، با استفاده از دستگاه AFM اندازه گیری شد و نتایج نشان دادند که سختی پوشش در حضور ذرات، از 1/86 به 3/23 گیگاپاسکال افزایش می یابد و افزون بر این، مقاومت به سایش هم افزایش می یابد.

نانوماده ی مرکب، عوامل سطحی آنیونی و کاتیونی، سدیم دودسیل سولفات، ستیل تری متیل آمونیم برمید