CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بازدهی جریان پالسی در فرایند پوشش دهی نانوذرات طلا از محلول دی سیانورات پتاسیم

عنوان مقاله: بازدهی جریان پالسی در فرایند پوشش دهی نانوذرات طلا از محلول دی سیانورات پتاسیم
شناسه ملی مقاله: JR_JMME-26-1_003
منتشر شده در شماره 1 دوره 26 فصل پاییز و زمستان در سال 1393
مشخصات نویسندگان مقاله:

پریسا وحدت خواه - دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف
سید خطیب الاسلام صدرنژاد - استاد، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف

خلاصه مقاله:
مقایسه ی اثر دو نوع زیرلایه و افزودنی نشان داد که هنگام پوشش دهی پالسی نانوذرات طلا، استفاده از اکسید ایندیم- قلع ( به جای مس) و سیس تیین ( به جای یدید پتاسیم) سبب بهبود مرفولوژی، افزایش تعداد نانوبلورها و بازدهی جریان الکتریکی و خواص فتوکاتالیزری می شود. مطالعات میکروسکپ الکترونی روبشی گسیل میدانی نشان داد که با افزایش فرکانس پالسی از 50 به 142/8 هرتز و استفاده از یدید پتاسیم، نانوخوشه های طلا روی سطح مس ظاهر می شوند و ضخامت پوشش و بازدهی جریان افزایش می یابند، ولی با کاهش چگالی جریان از 10 به 2/5 میلی آمپر بر سانتی متر مربع، ضخامت پوشش و بازدهی جریان کاهش می یابند.

کلمات کلیدی:
نانوذرات طلا، رسوب دهی الکتریکی پالسی، سیس تیین، یدید پتاسیم، مس، اکسید ایندیم- قلع

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/645267/