عطاءاله آی سان دائی - دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران، نارمک تهران
محمدحسین مهدیه - دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران، نارمک تهران
علی صنعتی - دانشکده مهندسی مکانیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تاکستان

در این مقاله گسیل اشعه ایکس سخت گسسته از پلاسمای تولید شده توسط تابش دهی اهداف فلزی نانوساختار آهن و آلومینیوم به وسیله پالسهای لیزر پرتوان با طول پالس بلندو شدت های مختلف بررسی می شود. به منظور کنترل و افزایش گسیل خطی اشعه ایکس، از اهداف فلزی نانو و ساختار به جای اهداف معمولی استفاده شد. شبیه سازی و محاسبات نشان می دهد در کلیه موارد مورد بررسی، میزان گسیل اشعه ایکس به ازا یک چگالی مناسب برای لایه نانویی، افزایش قابل ملاحظه ای خواهد داشت.

اشعه ایکس سخت، پلاسمای تولید شده توسط لیزر، گسیل خطی، هدف نانوساختار فلزی