CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

تاثیر تابکاری بر روی لایو نازک اکسید تنگستن بو منظور کاربرد در سیستم آینوی گرمایی

عنوان مقاله: تاثیر تابکاری بر روی لایو نازک اکسید تنگستن بو منظور کاربرد در سیستم آینوی گرمایی
شناسه ملی مقاله: SCMI21_136
منتشر شده در بیست و یکمین همایش بلور شناسی و کانی شناسی ایران در سال 1392
مشخصات نویسندگان مقاله:

قاسم کاوه ای - کرج مشکین دشت پژوهشگاه موادوانرژی
آیدین های فکور - پژوهشگاه موادوانرژی پژوهشکده نیمه هادی ها
سعید نیک بین - پژوهشگاه موادوانرژی پژوهشکده نیمه هادی ها

خلاصه مقاله:
سیستم سه لایه ی دی الکتریک/فلز/دی الکتریک لایه نشانی شده بر روی شیشه، میتواند به عنوان یک فیلتر اپتیکی که طیف مادون قرمز امواج الکترومغناطیس را بازتاب و به بیشتر امواج مریی اجازه ی عبور میدهد به کار رود. دراین تحقیق از اکسیدتنگستن به عنوان دیالکتریک و از نقره برای پوشش فلزی بازتاب دهنده استفاده شد. لایه ی نازک اکسید تنگستن با استفاده از تکنیک تبخیر با پرتو الکترونی لایه نشانی شد. اثر دما و مدت تابکاری بر روی ساختار و خواص اپتیکی لایه ها بررسی شد. تابکاری در خلا و در دماهای مختلف انجام شد. مورفولوژی سطح با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی مورد بررسی قرار گرفت که نشان داد که اندازه ی مولکولها وابسته به دمای تابکاری میباشد.

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/746592/