میترا ولی اله - گروه فیزیک، دانشکده مهندسی انرژی و فیزیک، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، ایران
پرویز پروین - گروه فیزیک، دانشکده مهندسی انرژی و فیزیک، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، ایران
سیده زهرا مرتضوی - دانشکده فیزیک، دانشگاه بین المللی قزوین
فاطمه شاهی - گروه فیزیک، دانشکده مهندسی انرژی و فیزیک، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، ایران

در این مقاله خواص غیرخطی گرافن های تولید شده توسط لیزر پالسی Nd:YAG سوییچ Q شده در طول موج 1064 نانومتر در محیط های آرگون و نیتروژن مایع به همراه گرافن تولید شده به روش لایه برداری مکانیکی با استفاده از روش روبش Z- بررسی شده و ضریب شکست غیرخطی آنها مورد محاسبه قرار گرفته است.

گرافن، فرسایش لیزری، ضریب شکست غیرخطی، روبش- Z