اثر تابش لیزر XeCl بر ساختار و مورفولوژی غشاء پلی اترسولفون
عنوان مقاله: اثر تابش لیزر XeCl بر ساختار و مورفولوژی غشاء پلی اترسولفون
شناسه ملی مقاله: IPC93_097
منتشر شده در کنفرانس فیزیک ایران 1393 در سال 1393
شناسه ملی مقاله: IPC93_097
منتشر شده در کنفرانس فیزیک ایران 1393 در سال 1393
مشخصات نویسندگان مقاله:
عادله هاشمی پناه - دانشکده فیزیک دانشگاه علم و صنعت ایران، تهران
خلاصه مقاله:
عادله هاشمی پناه - دانشکده فیزیک دانشگاه علم و صنعت ایران، تهران
در این مقاله به بررسی اثر لیزر XeCl روی ساختار سطحی و مورفولوژی غشاء پلیمری پلی اتر سولفون پرداخته شده است. نتایج بدست آمده نشان میدهد که با تغییر پارامترهای لیزر از جمله تعداد پالس و شاریدگی، میتوان حفره های کنترل شدهای روی سطح ایجاد کرد و سطح غشاء را برای کاربردهایی چون میکروفیلتراسیون ذرات مختلف، همودیالیز خون و نیز به عنوان بستری برای کشت انواع سلولهای زیستی، بهینه کرد.
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/960010/