کاربرد منابع تغذیه پالسی در فرایند اکسیداسیون الکترولینی پلاسمایی

از جمله روش های مهندسی سطحی که برای آلیاژهای آهنی و غیرآهنی وجود دارد می توان به انواع آبکاری الکتریکی، رسوب فیزیکی بخار، رسوب شیمیایی بخار، کربن دهی و نیتژون دهی پلاسمایی و جوشکاری سطحی اشاره کرد که همه به منابع تغذیه الکتریکی وابسته هستند و جریان های پالسی ایجاد شده توسط منابع تغذیه نسل جدید باعث ارتقای فرایندها و نتیجه آن ها می شود. اکسیداسیون الکترولیتی پلاسمایی، یکی از روش های نوین مهندسی سطح است که به طور ویژه برای آلیاژهای سبک مانند تیتانیم، آلومینیم و منیزیم به کار می رود و به شدت به نوع جریان اعمالی وابسته است. شکل موج های مختلف جریان نقش مهمی در میزان ولتاژ نهایی، ولتاژ شکست، ذوب موضعی و اکسیداسیون زیرلایه، پدیده تخلیه، کوئنچ و فرایند تبلور مجدد دارد که در پی آن، ریزساختار، ضخامت، زبری، تخلخل، سختی، نرخ رشد و مقاومت به خوردگی و سایش پوشش را تحت تاثیر قرار می دهد. در این مقاله به بررسی اثر جریان پالسی به صورت تک قطبی، دو قطبی متقارن و غیرمتقارن برای زیرلایه های آلومینیوم و منیزیم پرداخته شده است. نتایج بررسی مورفولوژی و سطح مقطع پوشش ها حاکی از آن است که با تغییر شکل موج پالسی از تک قطبی به دو قطبی و جرقه زنی نرم، مورفولوژی پوشش ها تغییر یافته و پوششی متراکم با میزان تخلخل کمتر و مقاومت بیشتر در برابر خوردگی حاصل می شود.