بررسی تأثیر اکسیداسیون گرمایی بر خواصنانو ساختارهای سیلیسیوم متخلخل بهمنظور استفاده در موجبر نوری
محل انتشار: دومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیزر ایران
سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,082
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCOLE02_211
تاریخ نمایه سازی: 24 اسفند 1389
چکیده مقاله:
در این مقاله شرح ساخت لایههای سیلیسیوم متخلخل متشکل از نانوساختارهارا به روش الکتروشیمیایی بر روی زیرلایه سیلیسیوم نوع p+ ارائه دادیم. مشخصات فیزیکی لایههای ساخته شده را با استفاده از روشجرمسنجی و تصویربرداری AFM وFESEM و مشخصات نوری آن را با استفاده از طیف بازتاب تعیین کردیم. سپسلایه متخلخل به دست آمده را اکسید کرده و تأثیر اکسیداسیون را بر خواص فیزیکی و نوری آن بررسی کردیم. نتایج نشان میدهد که اکسیداسیون گرمایی ابعاد نانوساختارها را افزایشداده و سطح هموارتری به وجود میآورد. از طرفی ضخامت لایه PS با اکسیداسیون افزایشیافته و ضریب شکست لایه حاصل کاهشمییابد. نتیجه این آزمایشمی تواند برای ساخت موجبرهای نوری در فناوری اپتیکمجتمع مورد استفاده قرار گیرد
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مریم زارع
خمینیشهر،باشگاه پژوهشگران جوان دانشگاه آزاد اسلامی واحد خمینیشهر
عباس شکرالهی
خمینیشهر،باشگاه پژوهشگران جوان دانشگاه آزاد اسلامی واحد خمینیشهر
فرامرز اسمعیلی سراجی
تهران، مرکز تحقیقات مخابرات ایران، گروه مخابرات نوری
محمدفاضل زارع
تهران، سازمان صنایع هوا- فضا، صنایع شهید شیرودی
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :