بررسی اثر ولتاژ بایاس بر ساختار و خواص پوشش TiN ایجاد شده به روش قوس کاتدی فیلتر شده (FCAD)

در این تحقیق جهت بهبود خواص سطحی فولاد ابزار سردکار DIN ۱.۲۰۶۷ ، پوشش TiN به روش رسوب دهیقوس کاتدی فیلتر شده (FCAD) بر روی فولاد لایه نشانی شد. ابتدا نمونه هایی از این فولاد با عملیات حرارتیسخت کاری شده و سپس نمونه ها در شرایط مختلف ولتاژ بایاس (۵۰ ، ۱۰۰ و ۱۵۰V) به مدت ۶۰ دقیقهپوشش دهی شدند. ساختار و خواص مکانیکی پوشش ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)آنالیز شیمیایی (EDS)، آنالیز VDI و میکروسختی سنجی مورد ارزیابی قرار گرفت. نتایج SEM بیانگر کاهشدرشت ذرات در پوشش های ایجاد شده با روش قوس کاتدی فیلتر شده بود. افزایش ولتاژ بایاس از ۵۰ به ۱۰۰ و۱۵۰V منجربه کاهش میکروسختی پوشش از ۱۲۱۵ ویکرز به ۱۰۸۵ و ۱۱۴۰ ویکرز شد. همچنین افزایش ولتاژبایاس باعث افزایش سرعت یون ها به سمت زیرلایه شده که این موضوع سبب بهبود چسبندگی پوشش TiNشده است.