ورود
مقالات فارسیISIکنفرانسهاژورنالها

مدل سازی ریاضی و شبیه سازی فرآیند لایه نشانی اکسید روی در پلاسمای Ar/O۲

محل انتشار: فصلنامه مهندسی برق و الکترونیک ایران، دوره: 18، شماره: 4
سال انتشار: 1400
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 277

فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:
https://civilica.com/doc/1294884

شناسه ملی سند علمی:

JR_JIAE-18-4_013

تاریخ نمایه سازی: 27 مهر 1400

چکیده مقاله:

 نظر به کاربرد گسترده لایه های نازک اکسید روی در ساخت حسگرها و سلول های خورشیدی نسل دوم و سوم، هدف از این تحقیق، تحلیل و شبیه­ سازی فرآیند لایه­ نشانی اکسید روی در سامانه کندوپاش مگنترونی مستقیم است. در این راستا، ابتدا مدل­ ریاضی ارائه شده برای فرآیند لایه­ نشانی در نرم­ افزار RSD۲۰۱۳، مورد مطالعه و بررسی قرار گرفته و پس از آن نتایج حاصل از شبیه­ سازی فرآیند لایه ­نشانی اکسید روی با استفاده از تارگت روی، در پلاسمای Ar/O۲،  تجزیه و تحلیل شده ­اند. همچنین، با توجه به تاثیر مشخصه­ های پلاسما بر فرآیند لایه­ نشانی، از نرم­ افزار XPDP۱ به منظور شبیه­ سازی پلاسمای سامانه کندوپاش استفاده شده است. معادلات دیفرانسیلی وابسته به زمان استفاده شده در RSD۲۰۱۳، بسیاری از پدیده­ های فیزیکی از جمله جذب شیمیایی گاز واکنشی از طریق تارگت و زیرلایه، لانه گزینی مستقیم و ضربه ­ای ذرات گاز واکنشی در تارگت، تشکیل ترکیبات کامپوند در نواحی زیر سطح تارگت، رسوب ذرات اسپاتر شده از تارگت روی سطح زیرلایه و بازگشت کسری از آن ذرات به سمت تارگت، و نیز رسوب مجدد ذرات اسپاتر شده روی سطح تارگت را در بر دارد. نتایج حاصل از شبیه­ سازی، در بهبود کیفیت اکسید روی لایه­ نشانی شده در سامانه­ های عملی کندوپاش واکنشی موثر خواهد بود.

کلیدواژه ها:

Mathematical modeling of ZnO Growth ، DC Magnetron sputtering system ، RSD۲۰۱۳ Software ، Ar/O۲ plasma ، XPDP۱ Software ، مدل سازی ریاضی لایه نشانی اکسید روی ، سامانه کندوپاش مگنترونی مستقیم ، نرم افزار RDS۲۰۱۳ ، پلاسمای Ar/O۲ ، نرم افزار XPDP۱

نویسندگان

مریم شکیبا

Jundi-Shapur University of Technology

محسن شکیبا

Jundi-Shapur University of Technology

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • W. D. Davis and T. A. Vanderslice, "Ion energies at ...
  • K. Rickards, "Energies of particles at the cathode of a ...
  • Z. Wronski, "Ion energy distributions in a special glow-discharge source", ...
  • G. A. Hebner, J. T. Verdeyen, and M. J. Kushner, ...
  • G. G. Lister, "Low-pressure gas discharge modeling", J. Phys. D, ...
  • J. P. Verboncoeur, M. V. Alves, V. Vahedi, and C. ...
  • V.Vahedi,R. W. Stewart, and M. A. Lieberman, "Analytic model of ...
  • V. Vahedi and M. Suranda, "A Monte Carlo Collision model ...
  • C. K. Birdsall and A. B. Langdon, "Plasma Physics via ...
  • Plasma Theory and Simulation Group at University of California, Berkeley. ...
  • Mattox DM, "Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing", William ...
  • Klaus Ellmer, "Magnetron sputtering of transparent conductive zinc oxide: relation ...
  • D Depla, S Heirwegh, S Mahieu and R De Gryse, ...
  • Tuan Anh Pham, Yuan Ping, Giulia Galli, "Modelling heterogeneous interfaces ...
  • V P Parkhutik, V I Shershulsky, "Theoretical modelling of porous ...
  • A.M.K.Dagamseh, B.Vet, P.Šutta, M.Zeman, "Modelling and optimization of a-Si:H solar ...
  • محمدجواد کیانی، مسلم زارع، "طراحی وساخت حسگراکسید قلع با حساسیت ...
  • محمدجواد کیانی، علیرضا صالحی، "لایه نشانی نازک سنسور گازی مبتنی ...
  • شه روز نصیریان، محمد مهدی شکروی، "مطالعه ی اثر رطوبت ...
  • K Strijckmans and D Depla, "A time-dependent model for reactive ...
  • مریم شکیبا، " بررسی و تنظیم شرایط رسوب لایه نازک ...
  • I. Safi, "A novel reactive magnetron sputtering technique for producing ...
  • D. Depla, S. Mahieu, R. De Gryse, "Magnetron sputter deposition: ...
  • D. Depla, X. Y. Li, S. Mahieu, K. V. Aeken, ...
  • S. Berg, H. O. Blom, T. Larsson and Nender, "Modeling ...
  • K. Strijckmans, W. P. Leroy, R. D. Gryse and D. ...
  • K. Strijckmans and D. Depla, "A time-dependent model for reactive ...
  • A. Bogaerts, E. Bultinck, I. Kolev, L. Schwaederle, K.V. Aeken, ...
  • E. Bultinck, "Numerical simulation of a magnetron discharge utilized for ...
  • D. Depla, and R. D. Gryse, "Influence of oxygen addition ...
  • D. Depla, S. Heirwegh, S. Mahieu, J. Haemers and R. ...
  • W. Vandervorst, T. Janssens, C. Huyghebaert and B. Berghmans, "The ...
  • W. P. Leroy, S. Mahieu, R. Persoons and D. Depla, ...
  • K. Strijckmans, D. Depla, "Modeling target erosion during reactive sputtering", ...
  • www.wxwidgets.org[۳۷] D. Depla and R. D. Gryse, "Cross section for ...
  • D. Depla, J. Haemers and R. D. Gryse, "Discharge voltage ...
  • A. Kosarian, M. Shakiba, E. Farshidi, “Role of Hydrogen Treatment ...
  • M. Shakiba, A. Kosarian & E. Farshidi, “Effects of processing ...
  • A. Kosarian, M. Shakiba, E. Farshidi, “Role of sputtering power ...
  • W. D. Davis and T. A. Vanderslice, "Ion energies at ...
  • K. Rickards, "Energies of particles at the cathode of a ...
  • Z. Wronski, "Ion energy distributions in a special glow-discharge source", ...
  • G. A. Hebner, J. T. Verdeyen, and M. J. Kushner, ...
  • G. G. Lister, "Low-pressure gas discharge modeling", J. Phys. D, ...
  • J. P. Verboncoeur, M. V. Alves, V. Vahedi, and C. ...
  • V.Vahedi,R. W. Stewart, and M. A. Lieberman, "Analytic model of ...
  • V. Vahedi and M. Suranda, "A Monte Carlo Collision model ...
  • C. K. Birdsall and A. B. Langdon, "Plasma Physics via ...
  • Plasma Theory and Simulation Group at University of California, Berkeley. ...
  • Mattox DM, "Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing", William ...
  • Klaus Ellmer, "Magnetron sputtering of transparent conductive zinc oxide: relation ...
  • D Depla, S Heirwegh, S Mahieu and R De Gryse, ...
  • Tuan Anh Pham, Yuan Ping, Giulia Galli, "Modelling heterogeneous interfaces ...
  • V P Parkhutik, V I Shershulsky, "Theoretical modelling of porous ...
  • A.M.K.Dagamseh, B.Vet, P.Šutta, M.Zeman, "Modelling and optimization of a-Si:H solar ...
  • محمدجواد کیانی، مسلم زارع، "طراحی وساخت حسگراکسید قلع با حساسیت ...
  • محمدجواد کیانی، علیرضا صالحی، "لایه نشانی نازک سنسور گازی مبتنی ...
  • شه روز نصیریان، محمد مهدی شکروی، "مطالعه ی اثر رطوبت ...
  • K Strijckmans and D Depla, "A time-dependent model for reactive ...
  • مریم شکیبا، " بررسی و تنظیم شرایط رسوب لایه نازک ...
  • I. Safi, "A novel reactive magnetron sputtering technique for producing ...
  • D. Depla, S. Mahieu, R. De Gryse, "Magnetron sputter deposition: ...
  • D. Depla, X. Y. Li, S. Mahieu, K. V. Aeken, ...
  • S. Berg, H. O. Blom, T. Larsson and Nender, "Modeling ...
  • K. Strijckmans, W. P. Leroy, R. D. Gryse and D. ...
  • K. Strijckmans and D. Depla, "A time-dependent model for reactive ...
  • A. Bogaerts, E. Bultinck, I. Kolev, L. Schwaederle, K.V. Aeken, ...
  • E. Bultinck, "Numerical simulation of a magnetron discharge utilized for ...
  • D. Depla, and R. D. Gryse, "Influence of oxygen addition ...
  • D. Depla, S. Heirwegh, S. Mahieu, J. Haemers and R. ...
  • W. Vandervorst, T. Janssens, C. Huyghebaert and B. Berghmans, "The ...
  • W. P. Leroy, S. Mahieu, R. Persoons and D. Depla, ...
  • K. Strijckmans, D. Depla, "Modeling target erosion during reactive sputtering", ...
  • www.wxwidgets.org[۳۷] D. Depla and R. D. Gryse, "Cross section for ...
  • D. Depla, J. Haemers and R. D. Gryse, "Discharge voltage ...
  • A. Kosarian, M. Shakiba, E. Farshidi, “Role of Hydrogen Treatment ...
  • M. Shakiba, A. Kosarian & E. Farshidi, “Effects of processing ...
  • A. Kosarian, M. Shakiba, E. Farshidi, “Role of sputtering power ...
    • نمایش کامل مراجع