بررسی تاثیر میدان مغناطیسی بر خواص ماکروسکوپیک لایه نانوالیاف با استفاده از روش مرکب مرکزی(CCD)

تولید نانو الیاف به روش الکتروریسی به علت پیوستگی فرآیند، سادگی عملی و سازگاری با مواد متفاوت به عنوان وسیع ترین و قدرتمندترین روش برای تشکیل لایه های ناتولیفی استفاده میشود. مهمترین چالش در فرایند الکتروریسی، کنترل نسبی بر نانولیفی و لایه ی تشکیل شده است. در این پژوهش با استفاده از دو بوبین سیم پیچی شده تاثیر میدان مغناطیسی بر الیاف در حال الکترورسی بررسی شده است. با استفاده از روش طراحی آزمایش مرکب مرکزی(CCD)، تغییرات ولتاژ در رنج ۱۰+ ولت به هر یک از بوبین های نصب شده در پشت صفحه ی جمع کننده اعمال شد. بر اساس نتایج به دست آمده با تغییر میدان مغناطیسی تغییر مساحت تجمع الیاف و انحراف از شکل دایره ای آن معنادار و بر محل تجمع الیاف معنادار نیست. با افزایش قدرت میدان مغناطیسی و در حضور دو قطب هم تام حداقل مساحت و حداکثر تغییر شکل نشست الیاف به دست آمد.