بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی برای تولید لایه سیلیکاتی متخلخل
سال انتشار: 1399
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 320
فایل این مقاله در 14 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_IJSSE-16-45_004
تاریخ نمایه سازی: 8 دی 1400
چکیده مقاله:
در این تحقیق، لایه سیلیکاتی فلوئوردار به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی و با استفاده از دستگاه پلاسمایی فرکانس رادیویی تولید شده است. به منظور کاهش ضریب شکست لایه ها، تخلخل های ساختاری در لایه ایجاد شد. میزان ناخالصی، ضریب جذب اپتیکی، زبری سطح و میزان چگالی جریان تراوشی و آستانه میدان شکست لایه ها مورد بررسی قرار گرفتند. به منظور بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی، نوع گاز فلوئوردار و فشار کاری و همچنین قرار دادن پایه برای بسترهای سیلیکونی مورد آزمایش قرار گرفتند. حالت های پیوند شیمیایی لایه ها و ریخت شناسی سطح لایه ها به ترتیب توسط طیفسنج تبدیل فوریه مادون قرمز و میکروسکوپ نیروی اتمی مورد بررسی قرار گرفت. علاوه بر این، مطالعه ضریب شکست و ضریب جذب لایه ها نیز توسط دستگاه بیضی سنجی طیفی انجام گرفت. نتایج نشان داد لایه سیلیکاتی فلوئوردار با خلوص بالا و تخلخل های ساختاری، دارای ضریب شکست فوق کم (۱.۱۷ و ۱.۰۹) و ثابت خاموشی کمتر از ۴-۱۰ است و افزایش فشار و همچنین قرار دادن پایه برای بستر ها موجب افزایش ناخالصی های آلی به ویژه پیوندهای کربنی و به موجب آن از بین رفتن تخلخل های ساختاری لایه شد که در مجموع منجر به افزایش ضریب شکست (۱.۳۹ و ۱.۳۷) و ثابت خاموشی (۰.۰۰۴ و ۰.۰۰۰۵) لایه ها شده است.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مرضیه عباسی فیروزجاه
گروه علوم مهندسی، دانشکده مهندسی، دانشگاه فناوری های نوین سبزوار، سبزوار، ایران
بابک شکری
پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه شهیدبهشتی تهران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :