بررسی اثر شار گاز استیلن در ترکیب پلاسما بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه نازک سیلیکای آلاییده با کربن

سال انتشار: 1399
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 251

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_IJSSE-16-43_003

تاریخ نمایه سازی: 8 دی 1400

چکیده مقاله:

در این تحقیق لایه های نازک سیلیکاتی و سیلیکای آلاییده با کربن به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی با استفاده از دستگاه کوپل خازنی در فرکانس رادیویی و روی زیرلایه های سیلیسیومی انباشت شدند. برای تولید لایه ها از ماده اولیه به صورت مایع آلی-سیلیکاتی TEOS استفاده شد و بخار آن با گازهای اکسیژن و استیلن با نسبت شارهای مشخص ترکیب شد. به منظور افزودن عنصر کربن به درون لایه های سیلیکاتی، گاز استیلن در ترکیب گازی پلاسما افزوده شد. تاثیر شار گاز استیلن بر ضخامت و ضریب شکست لایه ها با استفاده از آزمون بیضی سنجی طیفی مورد مطالعه قرار گرفت. علاوه بر این، به منظور بررسی میزان تغییر شفافیت لایه ها، جذب اپتیکی آنها نیز با همین روش آزمون تعیین شد. بررسی ریخت شناسی سطح لایه ها با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی نشان داد که افزایش شار گاز استیلن در ترکیب پلاسما، موجب افزایش زبری سطح لایه ها از ۰.۱ نانومتر تا ۵.۳ نانومتر شد. همچنین، نتایج مشخصه یابی اپتیکی نشان داد که افزایش گاز استیلن در ترکیب پلاسما موجب افزایش ضریب شکست لایه ها از ۱.۴۴۷ تا ۱.۴۸۵ و همچنین افزایش ضریب جذب اپتیکی آن ها از ۰.۸% تا ۹.۲% شده است. برای ترکیب شدن عناصر کربنی در لایه سیلیکاتی و تغییر خواص آن، اثر افزایش شار گاز استیلن با اثر کاهش اکسیژن در ترکیب پلاسما مقایسه شد.

کلیدواژه ها:

سیلیکای آلاییده با کربن ، پلیمریزاسیون پلاسمایی ، ضریب شکست ، رسوب شیمیایی بخار پلاسمایی ، آلی-سیلیکاتی

نویسندگان

مرضیه عباسی فیروزجاه

گروه علوم مهندسی، دانشکده مهندسی، دانشگاه فناوری های نوین سبزوار، سبزوار، ایران

بابک شکری

دانشگاه شهیدبهشتی تهران، پژوهشکده لیزر و پلاسما

هادی محمودی

دانشگاه شهید بهشتی، پژوهشکده لیزر و پلاسما

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Y.C. Tsai, J. Shieh. Growing invisible silica nanowires on fused ...
  • مظفری نیا رضا، ارزیابی ضریب شکست نور در لایه های ...
  • V. Hody-Le Caër, E. De Chambrier, S. Mertin, M. Joly, ...
  • بهاری علی و فدایی سیده مژده، ویژگی های نانو ساختار ...
  • هاشم­زاده یاسر، صالحی مهدی، پنجه­پور مسعود، باقری روح­اله، هاشم­زاده فاطمه، ...
  • L.K. Randeniya, A. Bendavid, P.J. Martin, Md.S. Amin, E.W. Preston, ...
  • A.S. Chaus, X.H. Jiang, P. Pokorný, D.G.Piliptsou, A.V. Rogachev, Improving ...
  • صالحی مژگان، اسحاقی اکبر، آقایی عباسعلی، ارزیابی پایداری شیمیایی نانو ...
  • M. Noborisaka, H. Kodama, S. Nagashima, A. Shirakura, T. Horiuchi, ...
  • M. Abbasi-Firouzjah, S. I. Hosseini, M. Shariat, B. Shokri, The ...
  • Marzieh Abbasi-Firouzjah, Babak Shokri, Characterization of Fluorinated Silica Thin Films ...
  • M. Abbasi-Firouzjah, B. Shokri, Characteristics of ultra low-k nanoporous and ...
  • M. Abbasi Firouzjah and B. Shokri “Deposition of high transparent ...
  • S.I. Hosseini, B. Shokri, M. Abbasi Firouzjah, S. Kushki, and ...
  • S.I. Hosseini, Z.Javaherian, D. Minai-Tehrani, R. Ghasemi, Z. Ghaempanah, M. ...
  • نسیبه صابری، مرضیه عباسی فیروزجاه، سید ایمان حسینی، بابک شکری، ...
  • سید ایمان حسینی، سعید کوشکی، مرضیه عباسی فیروزجاه، بابک شکری، ...
  • P.J. Stout, M.J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol. A ۱۱ ...
  • K. Takizawa, Y.Mori, N.Miyatake, K.Murata, Thin Solid Films ۵۱۶ (۲۰۰۸) ...
  • A. Fridman, L.A. Kennedy, Plasma Physics and Engineering (second edition), ...
  • D. Batory, A. Jedrzejczak,W. Kaczorowski,W. Szymanski, L. Kolodziejczyk, M. Clapa, ...
  • Hassan, Md Kamrul, Bimal Kumar Pramanik, and Akimitsu Hatta. "Electrical ...
  • P. Uznanski, B. Glebocki, A. Walkiewicz-Pietrzykowska, J. Zakrzewska, A.M. Wrobel, ...
  • H.G. Tompkins, J.N. Hilfiker, Spectroscopic Ellipsometry: Practical Application to Thin ...
  • P.F. Wang, S.J. Ding, W. Zhang, J.Y. Zhang, J. T. ...
  • G.F. Zhang, X. Zheng, LJ. Guo, Z.T. Liu and N.K. ...
  • L. Zajıckova, V. Bursıkova, V. Perinab, A. Mackova, J. Janca, ...
  • J.C. Damasceno۱, S.S. Camargo Jr., Plasma deposition and characterization of ...
  • M.K. Bhan, J. Huang, D. Cheung, Deposition of stable, low ...
  • P.F. Wang, S.J. Ding, W. Zhang, J.Y. Zhang, J. T. ...
  • نمایش کامل مراجع