مشخصه یابی اکسید روی آلاییده شده با مس به روش لایه نشانی اسپاترینگ همزمان

دراین تحقیق لایه نازک اکسید روی با آلاییدگی مس با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی همزمان (Co-sputtering) تهیه شد. اثرات غلظت ۲۰% مس برساختار کریستالی، مورفولوژی سطح و خواص اپتیکی به ترتیب با استفاده از پراش پرتو ایکس(XRD)، میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدان(FESEM)،طیف سنجی پراش انرژی پرتو ایکس (EDX) و طیف سنجی فرابنفش-مرئی (UV-VIS) مورد بررسی قرار گرفت. نتایج آنالیز EDX آلاییدگی مس را در ساختاراکسید روی تائید کرد. الگوی XRD ساختاری آمورف را نشان میدهد و همچنین بررسی نتایج UV بعد از بازپخت لایه نازک اکسید روی آلاییده شده با مس نشانمی دهد که گاف انرژی (band gap) کاهش پیدا کرده است.