بررسی و مطالعه اثر ترابردی بر ناهمواری سطح تانتالوم با استفاده از کاشت یون پرانرژی آرگون
فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
تاریخ نمایه سازی: 16 فروردین 1402
چکیده مقاله:
کلیدواژه ها:
نویسندگان
In the present study, effect of interfacial roughness on the ion implanted Tantalum based surfaces has been investigated. The argon ions with energy of ۳۰ keV and in doses of ۱×〖۱۰〗^۱۷, ۳×〖۱۰〗^۱۷, ۵×〖۱۰〗^۱۷, ۷×〖۱۰〗^۱۷, and ۱۰×〖۱۰〗^۱۷ (ion/cm۲) have been u
In the present study, effect of interfacial roughness on the ion implanted Tantalum based surfaces has been investigated. The argon ions with energy of ۳۰ keV and in doses of ۱×〖۱۰〗^۱۷, ۳×〖۱۰〗^۱۷, ۵×〖۱۰〗^۱۷, ۷×〖۱۰〗^۱۷, and ۱۰×〖۱۰〗^۱۷ (ion/cm۲) have been u
In the present study, effect of interfacial roughness on the ion implanted Tantalum based surfaces has been investigated. The argon ions with energy of ۳۰ keV and in doses of ۱×〖۱۰〗^۱۷, ۳×〖۱۰〗^۱۷, ۵×〖۱۰〗^۱۷, ۷×〖۱۰〗^۱۷, and ۱۰×〖۱۰〗^۱۷ (ion/cm۲) have been u
مراجع و منابع این مقاله: