تاثیر آماده سازی سطحی پوشش های پاشش حرارتی CoNiCrAlY بر رفتار اکسیداسیون این پوشش ها

در این پژوهش تاثیر فرآیندهای آماده سازی سطحی پوشش های CoNiCrAlY بر رفتار اکسیداسیون این پوشش ها مورد بررسی قرار گرفته است. بدین منظور در ابتدا پوشش  CoNiCrAlYبه روش پاشش حرارتی HVOF بر روی زیرلایه اینکونل ۷۳۸ پوشش دهی شدند. به منظور بررسی تاثیر فرآیند آماده سازی سطحی و حذف لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح پوشش در حین فرآیند پاشش حرارتی، بر رفتار اکسیداسیون این پوشش ها، سطح یکی از نمونه ها با سنباده ۴۰ پولیش شد. سپس نمونه ها در دمای ۱۰۵۰ درجه سانتیگراد به مدت ۱۰۰ ساعت تحت آزمون اکسیداسیون قرار گرفتند. برای ارزیابی ریزساختاری، فازی و شرایط سطحی از میکروسکوپ الکترونی روبشی، آزمایش پراش پرتو ایکس و زبری سنج استفاده شد. نتایج نشان داد پولیش کاری سطحی پوشش و حذف لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح پوشش در حین پاشش حرارتی، منجر به بهبود رفتار اکسیداسیون پوشش CoNiCrAlY شده است. لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح این پوشش لایه متراکمی از α-Al۲O۳ که از اکسیداسیون بیشتر پوشش جلوگیری کرده است و ثابت اکسیداسیون در این پوشش را به (۱۰-۱۰ gr۲ cm-۴ h-۱)۱۳-۱۰×۱/۰ رسانده است که نسبت به پوشش بدون آماده سازی سطحی در حدود ۱۶ برابر کمتر است. بررسی مورفولوژی سطحی لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح پوشش ها نشان داد که لایه اکسیدی تشکیل شده بر سطح نمونه پولیش شده، فازهای سوزنی شکل α-Al۲O۳ هستند و فازهای تشکیل شده بر سطح نمونه پولیش نشده فازهای گلوله ای شکل اسپینل، NiO و CoO می باشند.