بررسی عوامل تاثیرگذار در سنتز نانوسیم های نقره با استفاده از روش پلی ال و کاربردهای آن درپوشش های شفاف و رسانا

در این پژوهش از روش پلی ال اصلاح شده برای سنتز نانوسیم های نقره مورداستفاده در تهیه جوهرهای رسانا استفاده شد. هدف سنتزنانوسیم های نقره با مورفولوژی تک بعدی با قطر کمتر از nm ۱۰۰ و فرموله کردن جوهر رسانا حاوی نانوسیم های نقره با پایداری بالا درشرایط محیط، روش سنتز آسان و پر بازده سازگار با روش های چاپ متداول بود. طراحی آزمایش و تعیین هشت نمونه های تصادفی بااستفاده از نرم افزار دیزاین اکسپرت صورت گرفت . به طورکلی مورفولوژی نانوسیم های نقره AgNWs با تنظیم پارامترهای مختلف، از جملهدما، غلظت واکنش دهنده ها، زمان واکنش، نوع عامل کاهنده، سرعت هم زدن، عوامل جوانه زا، نسبت مولی PVP/AgNO۳ و وزن مولکولیPVP به طور قابل توجهی تحت تاثیر قرار گرفت و بهینه شد. سپس مکانیسم رشد نانوسیم های نقره شکل گرفته بررسی شده و مشخص شدکه هنگامی که نیترات نقره در حضور ذرات عامل سیمی کننده، کاهش می یابد (ذرات سدیم کلرید یا CuCl۲ )، نانوذرات نقره با توزیع اندازهپنج وجهی MTP از طریق فرایند هسته زایی ناهمگن در مخلوط واکنش تولید می شوند. همچنین پس از سنتز AgNWs خالص سازی آن هاصورت گرفت که این فرایند به سادگی شامل افزودن آهسته استون و اتانول به مخلوط محلول واکنش بود. سپس جهت تعیین مورفولوژی ازآزمون های SEM و FE-SEM به میانگین قطر nm۵۵ و میانگین طول ۷۵ / ۱ میکرومتر به دست آمد. سپس جهت انجام مشخصه یابینانوسیم های نقره از آزمون های FT-IR و XRD استفاده شد. علاوه بر این، پس از تولید و سنتز نانوسیم های نقره، آن ها را با استفاده ازروش پوشش دهی صفحه ای بر روی شیشه پوشش دهی کرده که در کاربردهای پوشش های شفاف و رسانا می توان استفاده نمود. نتایج اینپژوهش نشان می دهد که نانوسیم های نقره با طول بالا و قطرکم می توانند در پوشش هایی که رسانایی و شفافیت اهمیت بالایی دارد استفادهشده و الکترود رسانای شفاف ساخته شده مبتنی بر AgNW دارای عملکرد اپتوالکترونیکی خوبی با مقاومت الکتریکی پایین Ω ۲/۸ بهدست آمد.