بررسی رسانایی نانو الیاف الکتروریسی شده پلی(۳و۴-اتیلن دی اکسی تیوفن) پلی(استایرن-سولفونات) با استفاده از اسیدسولفوریک و حلال آلی

پلیمرهای رسانا به علت توانایی ذاتی خود در انتقال حامل های بار در بسیاری از کاربردها بکار می روند. در این میان از کوپلیمر پلی(۳و۴-اتیلن دی اکسی تیوفن)پلی(استایرن سولفونات)، به علت پایداری بالا مورد استفاده قرار می گیرد. در این مقاله به بررسی اثر عمل دوپه کردن بر روی کاهش مقاومت پلیمرهای رسانا پرداخته شده است. نانو الیاف کوپلیمر پلی(۳و۴-دی اکسی-تیوفن) پلی (استایرن سولفونات)، با استفاده از روش الکتروریسی تولید شد و سپس با دو ماده اسید سولفوریک و دی متیل فرم آمید جهت کاهش مقاومت نمونه الیاف الکتروریسی شده عمل شد. از میکروسکوپ الکترونی روبشی و مولتی متر جهت بررسی مورفولوژی سطح نانو الیاف الکترورریسی شده و مقاومت استفاده شد. مقاومت اولیه نانو الیاف الکتروریسی در محدوده مگااهم بود که با اعمال عملیات دوپینگ برسطح نانو الیاف این مقاومت به میزان زیادی کاهش یافت و در محدوده کیلواهم قرار گرفت.