مدلسازی و وارون سازی دو بعدی جانبینگار دوتایی به روش المان محدود

میزان مقاومت ویژه لایه های زیر زمین پارامتر مهمی برای برآورد حضور احتمالی نفت و میزان ذخیره ی آن است. جانبی نگار دوتایی یکی از مهمترین ابزارهای چاه نگاری برای اندازه گیری مقاومت ویژه است. این ابزار دارای دو سیستم کانونی کننده ی مجزا است: مد عمیق (LLD) و مد کم عمق (LLS) . به علت عدم دسترسی مستقیم به ساختارهای زیرزمینی به ویژه در عمق زیاد، مدلسازی نگارها کمک زیادی به طراحی ابزار و تفسیر پتروفیزیکی میکند. در اینجا مطالعه مان را محدود به چاه های قائم بر مرزهای لایه بندی کرده ایم. هدف از این مطالعه، مدلسازی و وارون سازی اندازه گیریهای مدهای LLS و LLD جانبی نگار دوتایی (DLT) در سازندهای لایه بندی شده ی همسانگرد، آغشته، غیر آغشته و فاقد شیب است. مدلسازی های با استفاده از برنامه های متلب و کامسول و به روش المان محدود انجام شده اند. مدلهای مصنوعی از محیط و ابزار نگاربرداری ساخته و پاسخ محیط (مقاومت ویژه) به دست آورده شد. سپس در یک سازند واقعی به وارون سازی نگارها پرداخته شد. برای وارون سازی علاوه بر کامسول و متلب، از ژئولاگ هم استفاده شد. نتایج نشان میدهند که نگارهای مقاومت ویژه LLS در مقایسه با LLD نسبت به آغشتگی توسط گل حفاری حساس ترند. همچنین، اثرات لایه های مجاور بر روی نگارهای مقاومت ویژه در لایه های نازک قابل توجه تر است.