طراحی ترانزیستور GaN HEMT با طول گیت 14 نانومتر

سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,213

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF و WORD قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICMRS01_234

تاریخ نمایه سازی: 8 آبان 1395

چکیده مقاله:

در این مقاله ترانزیستور GaN HEMT با طول گیت 14 نانومتر شبیه سازی شده است. برای نانومتری کردن طول گیت به جای لایه سد متداول AlGaN از لایه سد InGaN که چگالی گاز الکترون دوبعدی بیشتری نسبت به AlGaN دارد، استفاده شده است. هم چنین این لایه از نظر ثابت شبکه با لایه GaN هم خوانی دارد و باعث حذف اثرات پیزوالکتریک و در نتیجه امکان نازک کردن لایه بدون افزایش تنش و استرس بین دولایه می شود. در این مقاله مشخصات AC ، DC و جریان نشتی گیت بررسی شده است. فرکانس قطع و ماکزیمم فرکانس نوسان به ترتیب برابر 450GHz و 1/09THz است. هر چند این ترانزیستور برای کاربردهای توان بالا بسیار مناسب است اما با توجه به اینکه ولتاژ آستانه این افزاره 5- ولت می باشد لذا این افزاره برای کاربردهای دیجیتال مناسب نیست و تنها در کاربردهای توان بالا می تواند مفید باشد. به منظور استفاده در حوزه دیجیتال باید به دنبال روش هایی برای کاهش ولتاژ آستانه و تبدیل این ترانزیستور از نرمال روشن به نرمال خاموش بود.

کلیدواژه ها:

، GaN HEMT ، لایه سد InGaN ، چگالی گاز الکترونی دوبعدی ، پلاریزاسیون

نویسندگان

محسن حق پناه

دانشجوی کارشناسی ارشد برق الکترونیک، دانشگاه صنعتی مالک اشتر

سیدغیاث الدین طباطبایی پور

دانشجوی کارشناسی ارشد برق الکترونیک، دانشگاه صنعتی مالک اشتر

علیرضا عرفانیان

دانشیار دانشکده برق و الکترونیک، دانشگاه صنعتی مالک اشتر

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Newham, Wesley Scott. Development of AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors ...
  • Joh, Jungwoo, and Jesus A. del Alamo. "Mechanisms for electrical ...
  • Prakash, Chandra, and R.K. Chauhan. "Analyses of 2-DEG Characteristics in ...
  • Morkoc, Hadis, Roberto Cingolani, and Bernard Gil. "Polarization effects in ...
  • Endoh, A., et al. "Threshold voltage shifts in dec ananometr ...
  • Deleonibus, Simon, ed. Electronic Devices Architectures for the NANO-CMO9 Era. ...
  • Medjdoub, F., Carlin, _ F., Gaquiere, C., Grandjean, N., & ...
  • Yu, E. T., et al. "Spontaneous and piezoelectric polarization effects ...
  • Das, Palash, and Dhrubes Biswas. "Gate leakage current reduction with ...
  • Kuzmik, Jan. "Power electronics on InAIN/In) GaN: Prospect for a ...
  • Kuzmik, J., et al. "InAlN/GaN HEMTs: A first insight into ...
  • Tilek, Remziye, et al. "Comparison of the transport properties of ...
  • Teke, A., et al. "The effect of AIN interlayer thicknesses ...
  • Kelekci, O., et al. "Investigation of AlInN HEMT structures with ...
  • D. Maier, M. Alomari, N. Grandjean, J.-F. Carlin, M.-A. Diforte-Po ...
  • Haghshenas, A., M. Fathipour, and A. Mojab. "Dependence of self-heating ...
  • Ye, P. D., et al. "GaN metal -o xide -semiconductor ...
  • Vitanov, Stanislav, and Vassil Palankovski. "Normally-off AlGaN/GaN HEMTs with InGaN ...
  • Asgari, A., M. Kalafi, and L. Faraone. "The effects of ...
  • Guo, Han, et al. "Effect of GaN Cap Layer on ...
  • Zhang, Xiao Wei, et al. "AlNGaN HEMT T-gate Optimal Design." ...
  • Akazawa, M., et al. "Measuremet of valence-band offsets of InAIN/GaN ...
  • Fu, Yue, et al. Integrated Power Devices and TCAD Simulation. ...
  • Kim, Dae-Hyun, and Jesus A. Del Alamo. "30-nm InAs pseudomorphic ...
  • K.Shinohara , A. Corrion ; D. Regan, _ I. Milosavljevic ...
  • نمایش کامل مراجع