بررسی اثر بمباران نیتروژن بر خواص اپتیکی اکسید مس لایه نشانی شده به روش اسپاترینگ
سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 954
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NANOOCONF01_007
تاریخ نمایه سازی: 11 آبان 1395
چکیده مقاله:
برای بررسی اثر بمباران نیتروژن بر خواص اپتیکی اکسید مس لایه نشانی شده به روش اسپاترینگ، در 3 مرحله کار تحقیق صورت گرفت. اولین مرحله؛ لایه نشانی مس بر زیرلایه شیشه توسط کندوپاش مغناطیسی استوانهای است که از هدف مس با خلوص 99/99% و مخلوط گاز آرگون انجام گرفت، دومین مرحله بازپخت تحت شار اکسیژن توسط دستگاه پوششدهی شیمیایی در فاز بخار (CVD ) است و سومین مرحله بمباران نیتروژن توسط دستگاه کاشت یون نیتروژن با دوز (فرمول در متن اصلی مقاله) و با جریان 40 میکرو آمپر بر سانتیمترمربع انرژی 30 کیلو الکترون ولت است.هرکدام از این مراحل ساختار کریستالی با استفاده از دستگاه طیف پراش XRD و به جهت شناسایی و آنالیز از SEM و مورفولوژی سطح توسط AFM مورد بررسی و مطالعه قرار گرفت و درصد انعکاس از سطح نمونه توسط اسپکتروفوتومتری بررسی شده است. بعد از کاشت نیتروژن تشکیل فازهایCU(NO3)2 و (No3) Cu8 با ساختار orthorhombic توسط XRD تایید شده است ، AFM نیز افزایش roughness یا زمختی را نشان می دهد و طیف عبور و بازتاب بررسی شده است و انرژی گاف 7 / 1 الکترون ولت می باشد
کلیدواژه ها:
نویسندگان
بهاره گشمردی
دانشجوی کارشناسی ارشد نانو فیزیک