بررسی تغییرات خواص لایه های نازک اکسیدی در حضور یون اکسیژن با استفاده از منبع یون ساز
محل انتشار: هفتمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی
سال انتشار: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,585
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE07_072
تاریخ نمایه سازی: 29 خرداد 1387
چکیده مقاله:
در این طرح بررسی تغییرات خواص لایه های نازک اکسیدی در حضور یون اکسیژن برای چندین ماده اکسیژندار در دو فاز مطالعاتی و تجربی انجام شده است. در فاز مطالعه معلوم شد که فرآیند لایه نشانی این لایه ها در حضور یون اکسیژن موجب تغییر خواص مکانیکی و اپتیکی می شو د. در فاز تجربی، برخی از مواد مطالعه شده به عنوان نمونه انتخاب شد و در دو بخش تحت آزمایش قرار گرفت، به این ترتیب که ابتدا مواد اکسید تیتانیوم و ایندیوم در شرایط عادی لایه نشانی شد و شرایط مانند فشار و دما در زمان لایه نشانی برای هر کدام ثبت گردید . سپس همین مواد در شرایط فوق اما در حضور یون اکسیژن که به وسیله دستگاه یون ساز تولید می شد با همان ضخامت های قبلی لایه نشانی شد . طیف لایه های تهیه شده با استفاده از XRDو طیف سنج نوری تهیه گردیدند . بررسی طیف های به دست آمده نشان گر بهبود خواص لایه ها در حضور یون اکسیژن علاوه بر بالا رفتن درصد عبور لایه هاست.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
داود کلهر
دانشکده فیزیک ، دانشگاه علوم پایه دامغان
علی اصغر زواریان
مرکز فناوری خلا بالا، جهاد دانشگاهی صنعتی شریف،تهران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :