رسوب لایه نازک مس توسط رسوب فیزیکی بخار به کمک پرتو الکترونی و بررسی رفتار اکسیداسیون آن
محل انتشار: دهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی
سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,380
فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE10_120
تاریخ نمایه سازی: 1 فروردین 1388
چکیده مقاله:
در این تحقیق مس توسط رسوب فیزیکی بخار به کمک پرتو الکترونی به روی ویفر سیلیکون p-type(100) و شیشه نشانده شد و مورفولوژی سطحی آن توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی بررسی شد و به کمک تفرق پرتو ایکس عناصر موجود در پوشش ارزیابی گردید. سپس مقاومت به اکسیداسیون پوشش های مزبور سنجیده شد. نتایج به دست آمده حاکی از این بود که مس نانو ساختار پوشش داده شده، دارای خواص اکسیداسیون بهتری نسبت به ورقه مسی می باشد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
محسن صارمی
دانشکده مهندسی مواد دانشگاه تهران
مهدی یگانه
دانشکده مهندسی مواد دانشگاه تهران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :