استفاده از میدان مغناطیسی برای پرداخت کاری در مقیاس نانو متاثرازپارامترهای متفاوت با ذرات ساینده AIO2 و SIC

پرداخت کاری با استفاده ازمیدان مغناطیسی در مقیاس نانو NMAF، روشی جدید برای پرداخت کاری با زبری سطح در حد نانو بصورت فرآیند مکانیکی بوده و از طریق سایش پودر ذرات ساینده بعنوان ابزار، در فرآیندNMAF میباشد، نیروی مورد نیاز برای حرکت ذرات ساینده توسط میدان مغناطیسی که خود دارای حرکت نسبی با قطعهکار است تامین میشود. این روش برای پرداخت قطعات فلزی غیرمغناطیسی و یا قطعات غیر فلزی قابل استفاده است. از ویژگی های خاص این روش کاهش تنش های حرارتی به قطعه کار و نداشتن محدودیت درپرداختکاری سطوحی از قطعه است که بدلیل شکل هندسی ابزارهای معمول توانایی انجام کار را بروی آنها دشوار است مانند پرداختکاری سوپر آلیاژها و فلزات سخت و همچنین برای سطوحی که فرمهای خاصی دارند و نمیتوان از طرق دیگر به این میزان پرداخت سطحی دست پیدا کرد. در این مقاله با استفاده از مکانیزم نانوپرداختکاری برای پرداختکاری سطوح خارجی استوانهایی از جنس سوپرآلیاژ اینکوول 718 شرح داده شده است که کیفیت سطح در مقیاس نانو ارتقا می یابد. برای ایجاد میدان مغناطسیی از آهنرباهای متغییر با قابلیت تنظیم شدت جریان میدان مغناطیسی استفاده شده است. در آزمایشات انجام شده سعی بر آن شده است که تاثیرات ذرات ساینده، گپ یا فاصله آهنربا تا سطح کار و دوران برروی کیفیت سطوح قطعات مورد بررسی قرار گیرد. افزایش سرعت دورانی تاثیر گذار بوده و افزایش آن تا مقدار خاصی سبب دستیابی به صافی سطح بهتر میشود، پارامتر گپ که با افزایش آن کیفیت سطح کاهش مییابد. دیگر عامل اصلی تاثیرگذار بروی کیفیت سطح مقداراستفاده از ذرات ساینده میباشد. در این تحقیق از ذرات ساینده آلومینیوم اکسید و برای اولین بار از سیلیکون کارباید و تلفیق آنها مورد استفاده قرارگرفته است.