بررسی تاثیر دمای لایه نشانی بر روی خواصاپتیکی و مکانیکی لایه اکسید سیلیکون بر روی زیر لایه سیلیکون
محل انتشار: دومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیزر ایران
سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,026
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCOLE02_155
تاریخ نمایه سازی: 24 اسفند 1389
چکیده مقاله:
اعمال تغییرات در دمای زیر لایه در فرآیند لایه نشانی می توان لایه های اکسید سیلیکون با مشخصات اپتیکی و مکانیکی دلخواه بدست آورد . دمای زیر لایه از دمای محیط تا حدود 200c تغییر داده شد و ویژگی های اپتیکی و مکانیکی جداگانه مورد بررسی قرار گرفت . در دماهای لایه نشانی بالا مشخصات اپتیکی مناسب است ولی تنشبین لایه و زیر لایه زیاد می شود و دردماهای پایین تنشکم می شود ولی ساختار لایه ها از نظر اپتیکی مناسب نیست
کلیدواژه ها:
چگالی بهم پکیدگی – تنش– توان عبور
نویسندگان
اسماعیل زاهدی
مرکز ساخت قطعات اپتیکی صنایع الکترونیک شیراز
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :