بررسی اثر جذب عامل های هیدروژن و هیدروکسید بر خواص الکترونی و توپولوژیکی پلامبین

پلامبین همانند سیلیسین دارای ساختار هگزاگونال وگاف نواری بزرگی (۴۲۰meV) است. براساس تمامی مطالعاتگذشته پلامبین مانند یک عایق معمولی رفتار می کند. در این پژوهش خواص الکترونی و توپولوژیکی ابرسلول ۱×۳×۳پلامبین براساس محاسبات اصول اولیه و نظریه تابعی چگالی بررسی شده است. رفتار این ماده پس از پوشش جزیی توسطاتم هیدروژن، مولکول هیدروژن و مولکول هیدروکسید نیز مورد مطالعه قرار گرفته است. پلامبین پس از جذب دو اتمهیدروژن با گاف نواری ۱۵۰meV و چهار مولکول هیدروکسید با گاف نواری ۱۰۰meV و ناوردای توپولوژیک Z(۲)=۱ به یک عایق توپولوژیکی غیربدیهی تبدیل می شود. پلامبین می تواند گزینه مناسبی برای مشاهده اثر هال کوانتومی در دمای اتاق باشد.