مطالعه مکانیزم احیای پوشش چندلایه مس/نیکل-فسفر توسط روش ولتامتری چرخه ای

سال انتشار: 1401
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 217

فایل این مقاله در 9 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_IJSSE-18-51_003

تاریخ نمایه سازی: 27 آذر 1401

چکیده مقاله:

در این پژوهش مکانیزم رسوب دهی الکتروشیمیایی پوشش چندلایه مس/نیکل-فسفر از روش تک-حمام با استفاده از روش های ولتامتری چرخه ای و منحنی های توزیع گونه های پایدار در محلول بر حسب pH مورد بررسی قرار گرفت. در این راستا اثر تک تک اجزای حمام بر نوع گونه ی غالب در حمام و رفتار آن گونه ی غالب در رسوب دهی مورد مطالعه قرار گرفت. بسته به نوع گونه ی غالب در حمام، در ولتامتری های چرخه ای پیک های متفاوتی با پتانسیل و چگالی جریان خاصی مشاهده شد. پیک های ظاهر شده در ولتاموگرام ها نشان دهنده ی مکانیزم نفوذ-کنترل فرایند احیای کاتیون ها از محلول های مورد استفاده بود. با وجود اینکه کمپلکس کننده سیترات اثر ممانعت کننده بر احیای مس داشت اما جریان احیای نیکل را افزایش داد. از طرفی با وجود اینکه حمام سیتراتی مس-نیکل اغلب برای رسوب دهی آلیاژی مورد استفاده قرار می گیرد اما ظاهر شدن پیک های مجزا در منحنی های ولتامتری نشان داد که ترکیب و pH حمام نهایی برای رسوب دهی چندلایه ها کاملا مناسب بوده به طوری که می توان با انتخاب درست پتانسیل احیا، رسوبات غنی از نیکل و غنی از مس تهیه نمود. محدوده ی پتانسیل پیک مس برای لایه غنی از این عنصر ۰.۱ - تا ۰.۴ - V vs.SCE و محدوده ی پتانسیل نیکل برای لایه غنی از آن پتانسیل های منفی تر از ۰.۹- V vs. SCE بدست آمد.

نویسندگان

اکرم حسن پوریوزبند

گروه خوردگی و حفاظت از مواد، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران.

محمد قربانی

دانشکده مواد، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران

ابوالقاسم دولتی

دانشگاه صنعتی شریف

کیومرث احمدی

گروه خوردگی و حفاظت از مواد، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران.

معصومه پورصادق چلکدانی

گروه خوردگی و حفاظت از مواد، دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • T. Miyake, M. Kume, K. Yamaguchi, D. P. Amalnerkar, and ...
  • M. Khadem, O. V. Penkov, H. K. Yang, and D. ...
  • B. Bahadormanesh and M. Ghorbani, Electrodeposition of Zn–Ni–P compositionally modulated ...
  • S. Esmaili, M. E. Bahrololoom, and C. Zamani, Electrodeposition of ...
  • S. X. Jiang and R. H. Guo, Surface & Coatings ...
  • D.M.A. NabiRahni, P.T.Tang and P. Leisner, The electrolytic plating of ...
  • G. Heidari, S. M. Mousavi Khoie, M. Yousefi, and M. ...
  • S. Anwar, Y. Zhang, and F. Khan, Electrochemical behaviour and ...
  • S. Mehrizi, M. H. Sohi, and M. Saremi, Effect of ...
  • J. To, M. Alper, M. C. Baykul, and L. Pe, ...
  • Y. Hamada, R. Cox, and H. Hamada, Cu۲+-Citrate Dimer Complexes ...
  • M. E. Bahrololoom and A. Hoveidaei, Influence of post-heat treatment ...
  • C. qun LI, X. hai LI, Z. xin WANG, and ...
  • F. Chraibi, M. Fahoume, A. Ennaoui, and J. L. Delplancke, ...
  • B. Adeli, M. H Sohi, and S. Mehrizi, Effects of ...
  • G. L. Agawane et al., Non-toxic complexing agent Tri-sodium citrate’s ...
  • R. Omar, M. S. Aboraia, E. A. Oraby, R. Gubner, ...
  • S. Rode, C. Henninot, and M. Matlosz, Complexation Chemistry in ...
  • J. Ni, K. Han, M. Yu, and C. Zhang, Effect ...
  • E. Chassaing and K. V. Quang, Kinetics of copper electrodeposition ...
  • Ch.-C. LAI and Y. Ku, the mass transfer and kinetic ...
  • P. G. Daniele, G. Ostacoli, O. Zerbinati, S. Sammartano, and ...
  • P. G. Daniele, G. Ostacoli, C. Rigano, and S. Sammartano, ...
  • R. Y. Ying, P. K. Ng, Z. Mao, and R. ...
  • S. Cho, J. W. Jang, S. H. Jung, B. R. ...
  • V. Zin, K. Brunelli, and M. Dabalà, Characterization of Cu-Ni ...
  • A. Jaikumar, K. S. V Santhanam, S. G. Kandlikar, and ...
  • C. T. J. Low, C. P. De Leon, and F. ...
  • D. Grujicic and B. Pesic, Electrodeposition of copper: the nucleation ...
  • F. Haque, M. S. Rahman, E. Ahmed, P. K. Bakshi, ...
  • J. Q. Ni, K. Q. Han, M. H. Yu, and ...
  • نمایش کامل مراجع