طراحی سلول حافظه ایستای (SRAM) ترانزیستوری کم توان و مقاوم در برابر فرآیند ساخت

سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,249

فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICEEE07_300

تاریخ نمایه سازی: 19 اردیبهشت 1395

چکیده مقاله:

سلول حافظه SRAM شش ترانزیستوری متداول در ناحیه زیرآستانه عملکرد مناسبی ندارد. برای کاهش توان مصرفی عملکرد حافظه در ناحیه زیرآستانه بسیار ضروری است. در این مقاله یک سلول حافظه SRAM ترانزیستوری با قابلیت کار در ناحیه زیر آستانه و مقاومت بهینه در برابر تغییرات فرآیند ساخت ارائه می شود. با طراحی سلول ارائه شده و سلول شش ترانزیستوری متداول و یک سلول دیگر از مقالات اخیر برای مقایسه و با استفاده از تکنولوژی 90 نانومتر صنعتی و انجام شبیه سازی با HSPICE ملاحظه می شود که طرح ارائه شده نسبت به سلول شش ترانزیستور به میزان 52.94 % پایداری خواندن را بهبود داده است.

نویسندگان

ابوالفضل دهقان توران پشتی

دانشگاه آزاد اسلامی واحد قزوین

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • _ _ _ Sub-Threshold ...
  • _ _ _ _ Springer, 2009. ...
  • Kelin J. Kuhn, Martin D. Giles, David Becher, Pramod Kolar, ...
  • M. Sharifkhani and M. Sachdev, "Segmented virtual ground architecture ...
  • _ _ _ _ Large Scale Integr. ...
  • _ _ _ _ Symposium on VLSI, ser. GLSVLSI '13, ...
  • _ _ _ design for ...
  • _ _ _ _ _ _ _ Era [11] _ ...
  • نمایش کامل مراجع