اندازه گیری پویش آزاد میانگین الکترون در لایه های نازک Ni و چند لایه ایهای نازک Ni / Cu از طریق مطالعه بستگی مقاومت الکتریکی به ضخامت لایه ها

در این کار ضمن ارایه یک مدل ریاضی برای محاسبه مقاومت ویژه لایه های نازک، تغییرات مقاومت الکتریکی ویژه بر حسب ضخامت برای تک لایه ایهای نازک Ni و چند لایه ایهای نازک Ni / Cu مورد مطالعه قرار گرفت. لایه ها به روش الکتروانباشت از یک محلول الکترولیت شامل یونهای Ni و Cu رشد یافتند. ضخامت لایه ها از 200 تا 2000 نانومتر تغییر داده شد. نقش پراش پرتو ایکس (XRD) تعدادی از لایه های نازک Ni / Cu بیانگر ساختار چند لایه ای و پیروی آنها از ساختار ترجیحی زیر لایه خود است. از مطالعات اندازه گیری مقاومت الکتریکی ویژه، پویش آزاد میانگین برای لایه های نازک Ni و Ni / Cu محاسبه گردید.